○　特　長　○

◇　チップサイズ～150ｍｍウエハサイズまで対応可能、CMP素材の研究開発に最適です。

◇　卓上型でコンパクトながら、CMP全般の試験に最適。酸性・アルカリ性のあらゆるスラリーに対応可能です。また、この装置は、８”や12″用などの標準型をベースにダウンサイジングしてデザインされています。従って、通常の卓上型と違い､機械剛性が高いのが特長です。

◇　それ故､卓上型で取得した研磨データをスタンドアローン型に転用する際のデータ互換性に優れています。また空圧による荷重調整が可能ですので､平坦性は通常の錘荷重タイプに比べてより安定します。

◇　他に錘荷重タイプは研磨終了後のリンス時に､錘を外して低荷重に変更する作業が生じますが､空圧荷重タイプは研磨用荷重からリンス用低荷重への変更が容易である点がメリットです。